设备特点:
1.设备采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统 。
2.生产过程全部自动,连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃,温度分区控制可调。
3.真空室材料采用SUS304,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后喷漆处理。
4.真空室之间采用独立门阀隔开,我们设计的是插板阀,可以有效隔断,稳定工艺气体。传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。
连续线式磁控溅射真空镀膜设备
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连续线式磁控溅射真空镀膜设备
详细信息 连续线式磁控溅射真空镀膜设备主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。
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