在线CVD技术与离线真空磁控溅射工艺优劣对比

　　离线真空磁控溅射工艺，是在玻璃表面镀上具有低辐射作用的金属银功能膜，两侧必须加上多层介质膜作为保护和过渡膜层，膜层与玻璃通过物理键结合。
　　这种“软镀膜”产品有下列局限：膜层容易受到划伤或损坏；由于银极易氧化，膜层在接触到空气后会退化，因而其寿命有限；在短时间内必须将镀膜后的玻璃合成中空；如进行钢化等深加工时一般在镀膜之前完成。
　　在线LOW-E采用具有世界领先水平的在线CVD技术，在浮法玻璃生产过程中，当玻璃处于近700℃高温时，在表面上镀上半导体金属氧化物，膜层同玻璃通过化学键结合，成为玻璃表面的一部分。因而具有很好的化学稳定性和热稳定性。
　　这种“硬镀膜”产品具有如下特性：可单片使用；膜层牢固，耐用，实现永久节能；在合成中空时无需除去边部膜层，可像普通浮法玻璃一样进行热弯、钢化等深加工和储存。