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离子镀溅射专用银靶材

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品牌: CNM
单价: 面议
起订: 10 g
供货总量: 50000 g
发货期限: 自买家付款之日起 10 天内发货
所在地:
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-08-27 15:47
浏览次数: 2001
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明

     磁控溅射靶材 反应磁控溅射靶材 离子镀溅射靶材离子束溅射靶材圆片圆形靶材高纯靶材金属靶材,银靶材定做  ,银靶材99.99进口靶材科研用靶材实验用靶材,银靶材 公差靶材                                        

物理性质

 颜色

银白色金属

 密度

10.53g/cm³

 熔点

1064

技术指标

 纯度

4N-6N

 相对致密度

>99%

 公差

±0.1mm

 晶粒度

均匀

材质

CNM-高纯银

品牌

CNM

网址

www.85162188.com

产地

北京中金研新材料科技有限公司 

产品规格

 根据客户需要进行定制,来样加工,来图加工

最少起订量

1pcs

供货能力

同批次,同材质,持续可靠供应100pcs/

交货期

单片材料6个工日发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺

真空磁悬浮熔炼,热压,热等静压,特殊熔炼,浇铸成锭,热机械处理,加工中心

适用仪器

各类型号磁控溅射设备

产品用途

实验或研究级别用靶材 ,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等

认   证

ISO9001ISO14001SGS

产品优点

 高品质高纯度,价格优惠

 真空熔炼,湿法提纯制备,电子束熔炼提纯,化学法提纯,纯度高,杂质少

 反复锻造,进口轧机轧制气氛保护,氧化少,成型可塑

 相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

 薄膜均匀,耐腐蚀性高,薄膜牢固度好。

 
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