氢气还原炉 氢气气氛炉

一、氢气还原炉用途

氢气还原炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料、荧光粉的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在还原、惰性气氛环境下进行烧结。

二、氢气还原炉特点

1、控制精度：±1℃    炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。

2、微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。

3、炉管采用刚玉99陶瓷。

4、不锈钢金属法兰密封（双胶圈）

5、炉体温度接近室温

6、双回路保护

7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高

8、最大真空度 -0.1Mpa

9、可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）

10、温度类别：1000℃    1200℃   1400℃   三种

三、氢气还原炉参数

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！